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2004년 10월 13권 10호

표지설명

배경 그림은 나노프로브를 응용한 근접장 프로브 리소그래피의 원리를 설명하는 그림이다. 가운데 그림은 나노임프린팅 공정으로 제작된 100 nm급 선폭의 패턴 형상이다. (사진제공: 한국기계연구원 장원석, 이재종 박사)

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