물리학과 첨단기술

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1997년 5월호 6권 3호

광운대학교 전자물리학과의 대전입자빔 및 플라즈마 연구실에서 보유하고 있는 고출력 펄스 전자빔 가속장치(최대 전압 600 kV, 최대 전류 88 kA, 펄스너비 60 ns)인 '천둥

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표지설명

플라즈마 / 광운대학교 전자물리학과의 대전입자빔 및 플라즈마 연구실에서 보유하고 있는 고출력 펄스 전자빔 가속장치(최대 전압 600 kV, 최대 전류 88 kA, 펄스너비 60 ns)인 '천둥'의 모습과 이로부터 발생된 전자빔에 의해 유도된 플라즈마 채널의 모습이다. 이때의 밀도는 약 1.2x10^11/cm^3이다. 이 장치는 고출력 마이크로파의 발진, 자기플라즈마 동역학(MPD) 총의 개발 및 이를 이용한 플라즈마 청정기술 연구, 집단 가속된 고에너지 이온빔(~McV) 및 엑스선의 발생 및 응용 등과 같은 광범위한 분야에 사용되어지며, 또한 플라즈마 디스플레이 패널(PDP)의 기초연구에 응용할 수 있다. (사진 제공: 광운대학교 최은하 교수)